CMP Slurry 研磨液一般是由細小的研磨顆粒所組成 (20~200 nm), 但是通常都會存在著一些較大的顆粒 (1micron 或以
上 ) , 這些較大的顆粒易造成凝集而使晶片表面研磨時產生刮痕 (microscratch), Slurry-Safe cartridge filter 即是專為 CMP slurry 研磨液過濾所設計的濾心 , 其濾心結構為多層漸進式密度結構 , 可有效濾除研磨液中 1 micron 以上顆粒 , 以防止晶片表面之刮痕產生 , 並能保持原液之顆粒粒徑分佈 , 以確保 slurry 之研磨效果。
